CM-AQUA(去离子水清洗)

CM-AQUA 是用于 CMOS 图像传感器的全自动去离子水清洗系统。其高速系统配备加压去离子水清洗和离心干燥系统，可去除基板上大于 1µm 的异物。 CM-AQUA 可与其他 CIS 系统联机。

全自动去离子清洁系统

尺寸

宽 x 深 x 高 (不包括进料/卸料升降台)
1,445 x 1,728 x 2,248 mm

特色

高效去离子清洁
高效的清洁设计
可清洁小至 1 μm 的颗粒
可一次处理多达 8 个基板
高速离心干燥
以最高 1,200 rpm 的转速高速旋转
超洁净内部环境
全自动操作
可联机功能
关键词:
- 半导体
- 欧姆接触
- 过渡金属